多弧離子鍍膜機(jī)的核心技術(shù)是它的電弧蒸發(fā)源，多弧離子鍍膜機(jī)的蒸發(fā)源是一種比較特殊的冷陰極電弧放電的自蒸發(fā)、自電離式的一種固體型蒸發(fā)源。

　　所謂多弧離子鍍膜機(jī)就是用多個(gè)電弧蒸發(fā)源為核心的一種離子鍍膜設(shè)備，通常又叫多弧鍍膜、弧鍍、電弧鍍膜等。相較于其他鍍膜工藝，它具備的優(yōu)勢(shì)有：

　　機(jī)械整體簡單、設(shè)備生產(chǎn)效率高、工作周期短、適合大批量的工業(yè)化生產(chǎn)。

　　較大的鍍膜空間。 電弧蒸發(fā)源為固態(tài)，可靈活放置，所以工件在裝卡更換時(shí)更加簡單，無需附加加熱器使用。

　　工藝范圍廣。適合在較高真空或較低環(huán)境溫度（200?C）下做反應(yīng)鍍、離子鍍。

　　具備優(yōu)異的膜性能。工件的轟擊加熱、清潔和沉積交由離化金屬等離子體轟擊完成，實(shí)現(xiàn)“一弧三用”，且膜層結(jié)構(gòu)致密性高，膜層與鍍件牢固結(jié)合。

　　標(biāo)簽：多弧電源線路板